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2009年2月18日(水)から20日(金)東京ビッグサイトで開催される nanotech 2009 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議 にナノフォトニクス関連シミュレーション・ソフトウェアを出展!

オンチップ・インターコネクトのための表面プラズモンを用いた導波路設計・解析に興味がある方は、是非ともご来場頂き、空間マルチプレクサ等応用事例のデモをご覧ください。
日本アールソフトデザイングループ株式会社では、2月18日(水)から20日(金)東京ビッグサイトにて開催される nanotech 2009 において、オンチップ・インターコネクトのためのプラズモン導波路設計・解析用のナノフォトニクス関連シミュレーション・ソフトウェアを事例デモと共に紹介いたします。

光インターコネクトは、電気配線より約1,000倍も速く、将来のチップ内データ・コミュニケーションのための有望な候補と言われています。ナノ構造の光インターコネクトとして、有限要素法ベースのモード・ソルバFemSIMや3次元FDTD法シミュレーション・ソフトウェアFullWAVEを用いたオンチップ・インターコネクトのための表面プラズモン・ポラリトン(SPP)解析事例をご紹介します。SPPについては、モード解析から、励起、伝搬解析、具体的応用例として空間マルチプレクサ等のモデリングとシミュレーションを実演します。

また、新しくリリースされた高効率薄膜ソーラー・セルの設計・解析用Solar Cell ユーティリティについても、使用事例と共に紹介いたします。

皆様のお越しをお待ちいたしております。


■ nanotech 2009 概要
開催日時:2009年2月18日(水)から20日(金) 10:00から17:00
開催会場:東京ビッグサイト
弊社ブース番号:C-22
http://www.nanotechexpo.jp/


【本件に関するお問い合わせ先】
日本アールソフトデザイングループ株式会社
営業部 担当:赤木
本社:〒105^-0014 東京都港区芝1-9-6 マツラビル2F
TEL:03-5484-6670 FAX:03-5484-2288

《関連URL》
http://www.rsoftdesign.co.jp/
http://www.rsoftdesign.co.jp/product_device.html
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