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シャープ、プラズマクラスター技術で小児アトピー型喘息患者の気道炎症レベルが低減

報道関係者 各位
ニュースリリース


2014/09/18
シャープ株式会社
代表取締役社長 高橋 興三


アカデミア主導(※1)の臨床研究において、プラズマクラスター技術(※2)により
小児アトピー型の軽症(※3)および中症(※4)の喘息患者の気道炎症レベルが低減


 シャープが委託したアカデミア主導型臨床研究(※5)で、探索的解析(※6)において、プラズマクラスター技術(※2)により小児アトピー型の軽症(※3)および中症(※4)の喘息患者(FeNO値(※7)が90以下対象)の気道炎症レベルが低減する結果が得られました。
 本臨床研究は、シャープが東京大学医学部附属病院臨床研究支援センターに委託し、臨床研究専用イオン発生装置を提供しました。中央大学理工学部教授で東京大学名誉教授 大橋靖雄氏に臨床研究のデザインとデータ解析を担当いただきました。また、東京慈恵会医科大学附属第三病院小児科診療部長の勝沼俊雄氏に試験実施施設のまとめ役として、被験者のリクルート・検査測定を担当いただきました。
 本臨床研究は、小児アトピー型の軽症(※3)および中症(※4)の喘息患者130人を対象とし、自宅の寝室、居間、子供部屋の内、被験者の滞在時間が長い2つの部屋にイオン濃度約100,000個/cm3の臨床研究専用イオン発生装置を設置、個人ランダム化クロスオーバー二重盲検比較法(※8)にて前期後期各8週間の観察を実施しました。
 今回、臨床研究において小児アトピー型喘息の気道炎症レベルが低減し、プラズマクラスター技術(※2)が実際の生活環境でヒトの健康に対して貢献することがわかりました。 シャープはこれまでに、喘息の主要抗原のひとつであるダニアレルゲンに対して、プラズマクラスターイオンによるダニの死がい・糞に含まれる浮遊ダニアレルゲンの抑制効果(※9)を実証し、またダニアレルゲン抑制メカニズムの解明(※10)を行ってきました。
 今後も健康的な環境を創出するために、プラズマクラスター技術(※2)のさらなる進化とその効果の実証を進めてまいります。
 なお、本臨床研究の詳細内容は、2014年11月8日より開催される第51回日本小児アレルギー学会にて研究グループ(勝沼俊雄氏と大橋靖雄氏)が発表予定です。

<中央大学理工学部教授 東京大学名誉教授大橋靖雄氏のコメント>
 小児喘息患者に対する家電技術の二重盲検ランダム化臨床試験は他に類がなく、今回の試験は先駆性が高いと言えます。プラズマクラスター技術が小児アトピー型の軽症および中症の喘息患者の気道炎症レベルを低減する可能性があることを見出しました。今回の試験は方法論の発展に寄与するとともに、プラズマクラスター技術が社会へ貢献することを示唆したものと考えます。

<東京慈恵会医科大学附属第三病院小児科 診療部長 勝沼俊雄氏のコメント>
 プラズマクラスター技術は薬でも医療機器でもありません。その技術が、軽症および中症喘息児の気道炎症を抑え、呼吸機能を改善する可能性を示したことは、喘息児の長期ケアを行う上でとても意味のあることだと考えます。喘息のお子さまと、そのご家族に福音をもたらすデータであることを願っています。

 ※1:東京大学医学部附属病院臨床研究支援センターが受託し研究支援を行った。
 ※2:プラズマクラスターおよびPlasmaclusterは、シャープ株式会社の登録商標です。
 ※3:せき、喘鳴(ぜーぜー)が1回/月以上、1回/週未満。時に呼吸困難を伴うが、持続は短く、日常生活が障害されることは少ない。(小児気管支喘息治療・管理ガイドライン2012による)
 ※4:せき、喘鳴(ぜーぜー)が1回/週以上。毎日は持続しない。時に中・大発作となり、日常生活や睡眠が障害されることがある。(小児気管支喘息治療・管理ガイドライン2012による)
 ※5:受託者である東京大学医学部附属病院臨床研究支援センターが、シャープ株式会社とは独立して臨床研究の計画から実施・報告まで支援する形態の委託。
 ※6:事前に設定した全被験者を対象とした解析では、おそらくは炎症の程度が高い被験者が含まれていたため、プラズマクラスターの効果を検証することはできませんでした。被験者を限定することにより、当初はあまり期待していなかった呼吸機能の改善までが見いだされました。
 ※7:気道炎症レベルを表す指標の一つ。呼気中一酸化窒素濃度。
 ※8:治験薬の薬効を客観的に調べる臨床試験の方法。
 ※9:2003年9月3日発表。
 ※10:2006年7月21日発表。

シャープ株式会社
URL:http://www.sharp.co.jp/
〒5458522 
大阪市阿倍野区長池町22番22号

                                以 上
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